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北京特思迪取得用于晶圆薄膜抛光过程的厚度测量方法及设备专利8188www威尼斯注册

发布时间:2025-04-26      来源:网络


  金融界 2025 年 4 月 26 日消息,国家知识产权局信息显示,北京特思迪半导体设备有限公司取得一项名为“用于晶圆薄膜抛光过程的厚度测量方法及设备”的专利,授权公告号 CN 119501801 B,申请日期为 2025 年 1 月。

  天眼查资料显示,北京特思迪半导体设备有限公司,成立于2020年,位于北京市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1656.925954万人民币。通过天眼查大数据分析,北京特思迪半导体设备有限公司参与招投标项目106次,财产线条,8188www威尼斯APP此外企业还拥有行政许可21个。